在微電子半導(dǎo)體晶圓制程中，工藝氣體的純凈度與進(jìn)氣效率直接影響晶圓的良率與性能。深圳恒歌推出的微電子半導(dǎo)體晶圓制程工藝氣體過(guò)濾終端 316L 外殼快速進(jìn)氣擴(kuò)散器，專為半導(dǎo)體制程真空腔體快速放氣應(yīng)用設(shè)計(jì)，憑借精準(zhǔn)的過(guò)濾性能與高效的進(jìn)氣設(shè)計(jì)，成為晶圓制造環(huán)節(jié)的關(guān)鍵支撐設(shè)備。?

這款過(guò)濾終端最核心的優(yōu)勢(shì)在于其卓越的過(guò)濾精度，可達(dá) 0.003um，能高效攔截工藝氣體中的微小顆粒。在晶圓光刻、刻蝕等精密工藝中，即使是納米級(jí)的雜質(zhì)也可能導(dǎo)致電路缺陷，而該設(shè)備通過(guò)不銹鋼粉末燒結(jié)介質(zhì)，可深度凈化工藝氣體，防止微粒混入腔體，從源頭幫助企業(yè)提高產(chǎn)品合格率。同時(shí)，其 316L 不銹鋼外殼不僅具備出色的耐高溫、耐高壓、耐腐蝕特性，能適應(yīng)半導(dǎo)體制造中的嚴(yán)苛環(huán)境，還通過(guò)優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，巧妙規(guī)避了氣體流動(dòng)時(shí)的湍流產(chǎn)生。湍流會(huì)破壞真空腔體的穩(wěn)定環(huán)境，可能吹起腔體內(nèi)殘留顆粒或擾動(dòng)硅片，影響工藝精度，而該設(shè)備平穩(wěn)的氣流設(shè)計(jì)則徹底解決了這一隱患。?

作為快速進(jìn)氣擴(kuò)散器，其在保障過(guò)濾效果的同時(shí)，還能實(shí)現(xiàn)高效排氣，滿足真空腔體快速放氣的生產(chǎn)需求，助力提升制程效率。此外，產(chǎn)品全程在潔凈室環(huán)境內(nèi)完成制造、測(cè)試與包裝，每一臺(tái)都經(jīng)過(guò) 100% 完整性測(cè)試和 100% 氨氣泄露檢測(cè)，確保出廠品質(zhì)可靠。針對(duì)不同晶圓廠的設(shè)備布局差異，恒歌還提供定制化設(shè)計(jì)服務(wù)，讓設(shè)備能靈活適配各類安裝空間，進(jìn)一步提升使用便捷性。?

產(chǎn)品特點(diǎn)：?

1、0.003um 高精度過(guò)濾：深度攔截微粒，保障氣體超純。?

2、316L 不銹鋼外殼：耐極端工況，延長(zhǎng)設(shè)備壽命。?

3、快速進(jìn)氣設(shè)計(jì)：滿足真空腔體快速放氣，提升制程效率。?

4、抑制湍流產(chǎn)生：維持氣流平穩(wěn)，保護(hù)工藝環(huán)境。?

5、雙重嚴(yán)格檢測(cè)：100% 完整性與氨氣泄露檢測(cè)，質(zhì)量可控。?

微電子半導(dǎo)體晶圓制程工藝氣體過(guò)濾終端 316L 外殼快速進(jìn)氣擴(kuò)散器，以 “高效過(guò)濾 + 穩(wěn)定氣流 + 靈活適配” 的核心優(yōu)勢(shì)，為半導(dǎo)體晶圓制造提供可靠保障，是企業(yè)提升工藝水平的理想選擇。

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